芯片之痛需要常常提起，因为芯片的痛还在持续。不过在意识到现状的背后，已经有华为、中芯国际等公司在背后暗暗发力。不止如此，国内的相关企业正在走一种从小到大的模式：选择一个比较容易入手的方面，比如储存芯片中的Nor Flash，显示屏中的LCD开始，芯片加工中的制造设备，最后一步一步完善整个大布局。芯片发展到今天的7nm（在之前已经被认为是物理的极限）已经经历了几十年的蝶变。而台积电是最早发布7nm芯片将于2019年量产的公司，最近2018年12月17日又对外宣布2019将进行5nm制成市场，预计2020年量产，而实现这种突破的则离不开国内的一家芯片设备公司。

这家公司正是中微半导体设备有限公司。刻蚀机是芯片制造中除了光刻机之外的第二大关键设备。在最早，国内这些相关设备的购买都需要向国外相关部门申请，审批后才能限量购买。这家公司的创始人看不惯这种模式，放弃百万年薪，只为做出一颗中国“芯”，最终进入芯片制造关键设备刻蚀机的第一梯队，与东京电子、日立并行，打破了僵局，成为5nm刻蚀机的突破者。

尹志晓1984年进入英特尔工作，跟全球的顶尖人士协同开发芯片设计，参与设计出最先进的芯片开发，随后进入美国应材，年薪高达百万。但是当时国外对于芯片技术的封锁让尹志晓很不满。他认为集成电路是世界集成的发明，其中有75%都是在亚洲开发出来的，不应该局限于某个国家。在他60岁的时候，他带着他的团队包括倪图强等15人的团队，回国做中国自己的芯片。

回国3年后，尹志晓主导的团队就开发出了等离子体刻蚀机，在即将打入最先进的生产线时却被之前在工作的公司美国应材刁难。美国应材要求彻查中微半导体的相关资料，起诉中微半导体涉嫌侵犯其权利。而最终相关部门调查了中微600多万文件和30多人的电脑，都没有发现相关的涉嫌侵权的机密。这件事之后，中微半导体的名气反而更大了。

中微半导体借鉴国外的芯片公司，吸纳全球顶尖关键人才，目前已经拥有600多名员工，其中研发队伍拥有200人。通过自主研发，目前已经申请了1200多国内外专利，保护了中微半导体累计四次与西方国家的知识侵权碰撞。最近一次就是2018年初，美国涉嫌侵犯中微公司专利的设备出入海关时被扣下，价值3400万元，最后也通过相互授权和解。

正是以中微半导体为代表的集成电路设备行业开始迅速发展，目前几乎涵盖整个集成电路所有设备和材料，之前只有美国能够做到，这让国内在芯片的制造上越来越有底气。在这次突破性实现刻蚀机可以加工5纳米器件更是将国产刻蚀机推向全世界。最后值得一提的是，尹志晓本人非常的低调，对于刻蚀机5nm的进步，他强调这只是刻蚀机100的步骤中的几步，并且这都是基于团队的力量。而目前国内的芯片设备还处于一个相对落后的现实，未来需要更加谨慎和创新，才能不被“卡脖子”。